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标型离子
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标型离子
电子中和系统可使样片上的电荷积累为零
作者:admin ?? 发布于:2019-07-08 17:03 ?? 文字:【】【】【

  本设备具有刻蚀速度不变、平均性好、反复性好等特点,可普遍使用于微电子、光电子、通信等范畴的器件研发和制造。

  本产物采用口径φ150mm考夫曼型离子源,通过奇特布局的双钼栅离子光学系统及SHAG手艺包管在φ100mm范畴内束流的平均性为±5%,电子中和系统可使样片上的电荷堆集为零。

  本设备的刻蚀工作台可绕工作核心自转,离子束入射角可在0~90°之间肆意调整。

  本产物是操纵低能量平行Ar+离子束对基片概况进行轰击,概况上未被掩膜笼盖部门的材料被溅射出,从而达到选择刻蚀的目标,它采用纯物理的刻蚀道理。离子束刻蚀是目前所有刻蚀方式平分辨率最高,陡真性最好的方式,它能够对所有材料进行刻蚀,例如:金属、合金、氧化物、化合物、夹杂材料、半导体、绝缘体、超导体等。

脚注信息
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